電鍍廠用測(cè)厚儀產(chǎn)品性能

有些膜厚儀采用了磁性測(cè)厚法,是一種超小型測(cè)量?jī)x,它能快速,無(wú)損傷,地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴涂.電鍍層厚度的測(cè)量.可廣泛用于制造業(yè),金屬加工業(yè),化工業(yè),商檢等檢測(cè)領(lǐng)域.特別適用于工程現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量.

有些膜厚儀采用二次熒光法,它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

電鍍廠用測(cè)厚儀選擇條件

在生產(chǎn)過(guò)程中如何選擇膜厚儀呢?

首先取決于你所測(cè)產(chǎn)品的結(jié)構(gòu).如果只是簡(jiǎn)單的涂層,銅箔使用普通的膜厚儀就可以解決了.如銅箔測(cè)厚儀,涂層測(cè)厚儀.

如果測(cè)量多層金屬鍍層，目前*方式：X-ray鍍層測(cè)量法原理：

X射線和紫外線與紅外線一樣是一種電磁波。可視光線的波長(zhǎng)為0.000001 m （1μm）左右,X射線比其短為0.1m至0. m (0.01- 100 ?)左右。

對(duì)某物質(zhì)進(jìn)行X射線照射時(shí),可以觀測(cè)到主要以下3種X射線。

（1） 熒光X射線

（2） 散亂X射線

（3） 透過(guò)X射線

的產(chǎn)品是利用熒光X射線得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的熒光X射線法原理。和熒光X射線分析裝置一樣被使用的X射線衍射裝置是利用散亂X射線得到物質(zhì)的結(jié)晶信息(構(gòu)造)。而透過(guò)X射線多用于拍攝醫(yī)學(xué)透視照片。另外也用于機(jī)場(chǎng)的貨物檢查。象這樣根據(jù)想得到的物質(zhì)信息而定X射線的種類。

簡(jiǎn)單地說(shuō)螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質(zhì)中的元素信息（物質(zhì)構(gòu)成,組成和鍍層厚度）,X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。

具體地說(shuō),比如用不同的裝置測(cè)定食鹽(氯化鈉=NaCl)時(shí),從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉(Na)和氯(Cl)構(gòu)成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由氯化鈉(NaCl)的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會(huì)認(rèn)為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置(XRD為好,但當(dāng)測(cè)定含多種化合物的物質(zhì)時(shí)只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能進(jìn)行定性。

X射線裝置大致可分為以下2種產(chǎn)品。

管理表面鍍層鍍層厚度測(cè)定的SFT系列（熒光X射線鍍層厚度測(cè)定儀）

分析材料組成(濃度)的SEA系列（熒光X射線分析儀）

鍍層厚度測(cè)量?jī)x的代名詞。

隨著市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的愈加激烈及產(chǎn)品更新?lián)Q代的加快，客戶需求也日新月異。為了迎接新世紀(jì)的挑戰(zhàn)，

*可測(cè)量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度。

*可通過(guò)CCD攝像機(jī)來(lái)觀察及選擇任意的微小面積以進(jìn)行微小面積鍍層厚度的測(cè)量，避免直接接觸或破壞被測(cè)物。

*薄膜FP法軟件是標(biāo)準(zhǔn)配置，可同時(shí)對(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測(cè)量。此外，適用于無(wú)鉛焊錫的應(yīng)用。

*備有250種以上的鍍層厚度測(cè)量和成分分析時(shí)所需的標(biāo)準(zhǔn)樣品。

XD-1000測(cè)厚儀是一款X射線熒光光譜儀，致力于金屬電鍍層的厚度測(cè)量，測(cè)量精度達(dá)到5%以內(nèi)，薄測(cè)試0.005微米，*可以滿足企業(yè)的測(cè)試要求。